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针对大规模集成电路、精密电子工业、科研等需要的超纯水制备系统,采用全膜法处理设计,根据使用点水质的不同要求,采用“盘滤+超滤 + 反渗透(Ⅰ)+反渗透(Ⅱ)+CEDI+抛光混床” 的超纯水制备工艺流程。
100m³/h半导体工业用超纯水系统
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